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光刻機和蝕刻機有什么區(qū)別？

這樣的答題必須要有專業(yè)的人才懂，高端芯片制作工藝光刻和蝕刻機這不是誰都懂的，你也許是專業(yè)行家，本人是搞染料化工的，相差十萬八千里，那就等于是我問你核潛艇的主要結(jié)構(gòu)，你能回答嗎？邀人答題那也要看看邀請對像才行。還連續(xù)邀請，這不是強人所難嗎？再見！

最近中興事件作為導(dǎo)火索，引發(fā)了國人關(guān)于芯片討論，其中不免涉及到了芯片制造業(yè)兩大至關(guān)重要的技術(shù)，蝕刻機和光刻機，作為一個業(yè)余愛好者，我為大家分享一下我知道的東西。

什么是光刻機

光刻機作為制造芯片的核心裝備之一，因為用途的不同，分為生產(chǎn)芯片的光刻機，用于封裝的光刻機，還有LED領(lǐng)域的投影光刻機，目前主要討論的是用于生產(chǎn)芯片的光刻機，這也是芯片領(lǐng)域，我國最薄弱的環(huán)節(jié)。

先了解一下光刻中必須要用的東西——光刻膠，簡單的來說這種膠狀物，只能被光腐蝕，而不能被化學(xué)物質(zhì)腐蝕，制造芯片時講光刻膠涂在金屬表面，然后用光把不需要的地方腐蝕掉，制作出自己需要的圖形（電路結(jié)構(gòu)之類的），接下來就該蝕刻機上場了。

什么是蝕刻機

蝕刻分為兩類，一類是干刻，一類是濕刻（目前主流），濕刻就是特定的化學(xué)溶液與上個部分光刻機制作后的薄膜發(fā)生反應(yīng)，發(fā)生反應(yīng)過后剩下的東西，就是需要的東西了，這個過程有液體接觸，所以叫濕刻。

干刻更加高級，目前并沒有大規(guī)模應(yīng)用，它是通過等離子電漿去除未覆蓋的薄膜。

光刻機 ASML一枝獨秀

以前光刻機領(lǐng)域還有佳能尼康制衡ASML，不過隨著技術(shù)差距越來越多，目前高端光刻機市場被ASML壟斷，7nm級別光刻機17年的產(chǎn)量只有12臺，一臺1.2億美元，還要提前21個月預(yù)訂，中國就算排隊，也不知道哪年買得到，背地里還有有些國家作怪，目前國產(chǎn)光刻機還處于90nm階段，任重道遠。

五大蝕刻機廠商 中微是其一

目前能生產(chǎn)7nm級別蝕刻機的有應(yīng)用材料，科林研發(fā)，東京威力科創(chuàng)，日立先端，中微半導(dǎo)體五家公司，中微是唯一一家中國企業(yè)，并且已經(jīng)開始向臺積電供貨，中微也代表著中國頂尖的半導(dǎo)體技術(shù)。

中國半導(dǎo)體起步晚，需要走的路還很長，不過中國人最不缺的就是毅力，只有堅持不懈方能厚積薄發(fā)。

其實從字面表面意思就能看出來，無論是這兩個其中的哪種機器，用在芯片制造上都有很大的幫助，也是芯片制造的主要方式。隨著時間的推進，現(xiàn)在的光刻技術(shù)出現(xiàn)兩種趨勢，一個是光刻機，一種是蝕刻機。

那么這兩種有什么區(qū)別呢？

光刻機是芯片制造行業(yè)的主要載體。他的工作原理是在硅片上涂上一層均勻的光刻膠，然后利用紫外線照在上面，其中還包含了編碼，把需要刻制的東西編碼完成，用光刻技術(shù)刻到上面。從而達到保存的效果。光刻機上面是光照部，中間是掩膜版，最后是需要刻制的載體。

光刻機發(fā)展至今，目前已經(jīng)有了很多種形式，但工作原理大同小異，沒什么區(qū)別。而且國內(nèi)現(xiàn)在已經(jīng)有了自主產(chǎn)權(quán)，發(fā)展前景很不錯。

蝕刻機與光刻機比起來就有些粗糙了，他是直接把內(nèi)容刻在載體上，對載體表面進行侵蝕從而達到刻錄的目的。目前國內(nèi)的蝕刻機有兩種，干刻和濕刻，但是工作原理都相同，利用離子與電壓的結(jié)合，達到刻錄的目的。

總的來說，兩種刻制方式都是主流的形式，如果選擇的話完全是根據(jù)自己的需求。只能說兩種都不會讓人失望。